Quel est le principal objectif de la « densification », recuit à haute température d'un oxyde déposé par exemple par CVD basse température ?

Réponse : C. Densifier le film et en chasser l'humidité, pour rapprocher sa vitesse de gravure et ses propriétés électriques de celles d'un oxyde thermique

Un oxyde déposé à basse température est poreux et contient de l'humidité, de l'hydrogène et des liaisons Si-OH ; il se grave vite à l'acide fluorhydrique et son isolation tend à être inférieure. Un recuit vers 600 à 1000 ℃ le resserre, l'amincit de quelques %, en chasse les impuretés et rapproche sa vitesse de gravure et ses propriétés électriques de celles d'un oxyde thermique. Dans les étapes à budget thermique serré, où la température de densification ne peut être élevée, on lui substitue un traitement plasma ou une irradiation UV.