Wat is het belangrijkste doel van densificatie, het na de depositie bij hoge temperatuur uitgloeien van oxidelagen die bij lage temperatuur met CVD zijn afgezet?

Antwoord: C. De laag verdichten en vocht verdrijven, zodat etssnelheid en elektrische eigenschappen dichter bij die van thermisch oxide komen

Oxidelagen die bij lage temperatuur zijn afgezet, hebben veel ruimten en bevatten water, waterstof en Si-OH-bindingen, waardoor ze snel etsen in fluorwaterstofzuur en een slechtere isolatie hebben. Bij een warmtebehandeling van circa 600 tot 1000 °C krimpt de laag enkele procenten, ontwijken de aanwezige onzuiverheden en komen etssnelheid en elektrische eigenschappen dichter bij die van thermisch oxide. In processen met een strikt thermisch budget kan de temperatuur van densificatie niet worden verhoogd, en wordt plasmabehandeling of UV-bestraling als alternatief gebruikt.