Prozessmaterialien (Gase, Chemikalien)

Welches Ausgangsgas wird verwendet, um Siliziumfilme bei niedrigerer Temperatur als mit Monosilan (SiH4) abzuscheiden?

  1. ADisilan (Si2H6)
  2. BTetrafluormethan (CF4)
  3. CStickstoff (N2)
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Antwort: A. Disilan (Si2H6)

Disilan (Si2H6) hat eine leichter spaltbare Si-Si-Bindung als Monosilan und zerfällt daher leichter, sodass Filme auf Siliziumbasis bei niedrigerer Temperatur abgeschieden werden können. Bei Epitaxie bei niedriger Temperatur ist es wertvoll, weil sich die Diffusion von Dotierstoffen unterdrücken und steile Konzentrationsprofile erzeugen lassen. Gelegentlich wird das noch leichter zerfallende Trisilan (Si3H8) verwendet. CF4 ist ein Ätzgas und Stickstoff ein Inertgas; beide sind keine Ausgangsstoffe für Silizium.

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