Prozessmaterialien (Gase, Chemikalien)

Welches Material dient als Substrat von Fotomasken für die ArF-Belichtung?

  1. ASynthetisches Quarzglas
  2. BNatron-Kalk-Glas
  3. CAluminium
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Antwort: A. Synthetisches Quarzglas

Bei der ArF-Belichtung (193 nm) wird als Maskensubstrat synthetisches Quarzglas verwendet, das das kurzwellige Licht gut durchlässt und eine geringe Wärmeausdehnung hat, und darauf werden Muster aus Chrom-Lichtschutzfilm oder Phasenschieberfilm hergestellt. Natron-Kalk-Glas absorbiert tief-ultraviolettes Licht und hat eine große Wärmeausdehnung und ist daher nicht verwendbar. Für EUV gibt es kein lichtdurchlässiges Material, sodass reflektive Masken verwendet werden, bei denen auf Glas mit nahezu null Wärmeausdehnung eine Mehrfachschicht aufgebaut wird.

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