Messtechnik und Analytik
Welche Eigenschaft der Dunkelfeld-Methode, die nur Streulicht erfasst, im Vergleich zur Hellfeld-Methode, die das Strukturbild direkt betrachtet, ist bei Wafer-Fehlerinspektionsanlagen richtig?
- AStreulicht von Partikeln u. Ä. lässt sich mit hoher Empfindlichkeit erfassen, und ein großer Bereich lässt sich leicht schnell inspizieren
- BSie hat stets höhere Auflösung als Hellfeld
- CPartikel können nicht erkannt werden
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Antwort: A. Streulicht von Partikeln u. Ä. lässt sich mit hoher Empfindlichkeit erfassen, und ein großer Bereich lässt sich leicht schnell inspizieren
Die Dunkelfeld-Methode empfängt nicht das spiegelnd reflektierte Licht, sondern nur das an Partikeln und Fehlern gestreute; der Hintergrund ist dunkel, kleine Partikel treten hell hervor, und große Bereiche lassen sich schnell inspizieren. Die Hellfeld-Methode erfasst das Strukturbild direkt über das Reflexionslicht und ist bei der Erkennung von Formfehlern der Strukturen überlegen, aber die Inspektion ist langsamer. Daher wird für die Partikelüberwachung Dunkelfeld und für die genaue Bewertung neuer Prozesse Hellfeld verwendet.