Ätzen

Welches Verfahren verschmälert ein durch Belichtung erzeugtes Resistmuster mit Plasma schrittweise, um Linien zu erzeugen, die feiner als die Belichtungsgrenze sind?

  1. AResist-Trimming (Slimming)
  2. BReflow
  3. CEdge Bead Removal
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Antwort: A. Resist-Trimming (Slimming)

Resist-Trimming ist ein Verfahren, bei dem das Resistmuster mit sauerstoffhaltigem Plasma o. Ä. isotrop schrittweise abgetragen und die Linienbreite verringert wird. Beispielsweise wird mit der Belichtung eine 50-nm-Linie erzeugt und durch Trimmen auf 30 nm reduziert; so wurden Gates gebildet, die feiner als die lithografisch auflösbare Breite sind. Der Pitch (Wiederholabstand) wird dadurch jedoch nicht kleiner, und die Streuung der abgetragenen Menge sowie LER gehen direkt in die Maßstreuung ein, daher ist die Kontrolle wichtig.

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