Schichtabscheidung (CVD, PVD)

Welche Aussage zur Bedeutung der „Sputterausbeute“ beim Sputtern ist richtig?

  1. ADie für die Abscheidung benötigte Zeit
  2. BDer Anteil guter Chips pro Wafer
  3. CDie Zahl der herausgeschlagenen Atome pro auf das Target treffendem Ion
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Antwort: C. Die Zahl der herausgeschlagenen Atome pro auf das Target treffendem Ion

Die Sputterausbeute gibt an, wie viele Atome pro auf das Target treffendem Ion herausgeschlagen werden; bei Argonionen von einigen hundert eV liegt sie ungefähr bei 0,5 bis 3. Sie ist umso größer, je höher die Ionenenergie und je schwerer das Ion ist (je näher die Masse an der der Targetatome), und steigt auch bei schrägem Einfall. Sie unterscheidet sich stark je nach Material, sodass die Abscheiderate bei gleichen Bedingungen von Metall zu Metall verschieden ist; sie hängt auch mit der Abtragsgeschwindigkeit durch Sputtern beim Ätzen zusammen.

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