Schichtabscheidung (CVD, PVD)
Welches Bauteil einer CVD-Anlage führt das Prozessgas von oberhalb des Wafers durch viele kleine Löcher gleichmäßig zu?
- AShowerhead
- BSuszeptor
- CLoad Port
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Antwort: A. Showerhead
Der Showerhead ist eine Platte mit mehreren hundert bis mehreren tausend kleinen Löchern, die das Prozessgas gleichmäßig auf den gesamten Wafer bläst. Über die Anordnung und die Größenverteilung der Löcher wird die Schichtdickengleichmäßigkeit eingestellt; bei PECVD dient er zugleich als obere Elektrode. Seine Temperatur wird geregelt, damit sich auf dem Head selbst keine Schicht abscheidet, die zu Partikeln wird. Der Tisch, auf dem der Wafer liegt und erhitzt wird, ist der Suszeptor (Heizer), der Ort zum Aufsetzen des Behälters mit den Wafern der Load Port.