Reinraum und Fertigungsanlagen

Welcher Begriff bezeichnet im Reinraum nicht Partikel, sondern gasförmige Verunreinigungen (Säuren, Basen, organische Stoffe usw.)?

  1. APartikelkontamination
  2. BMolekulare Kontamination (AMC)
  3. CElektrostatische Entladung (ESD)
Antwort und Erläuterung anzeigen

Antwort: B. Molekulare Kontamination (AMC)

AMC (Airborne Molecular Contamination) bezeichnet molekulare Verunreinigungen in der Luft, etwa saure und basische Gase, organische Stoffe und Dotierstoffe. Moleküle sind viel kleiner als Partikel und werden von üblichen Filtern nicht zurückgehalten; sie werden mit chemischen Filtern entfernt. Ammoniak neutralisiert die Säure chemisch verstärkter Resists, und organische Stoffe lagern sich auf der Waferoberfläche ab und beeinträchtigen die Haftung und Verbindung von Schichten. ESD steht für elektrostatische Entladung.

Dieses Thema üben Zur Themenseite

Weitere Fragen zu Reinraum und Fertigungsanlagen

  1. Welches System transportiert in einer Fabrik für 300-mm-Wafer die FOUPs automatisch entlang von Deckenschienen zwischen den Anlagen?
  2. Welche Einrichtung am Reinraumeingang bläst kräftige saubere Luft auf Mitarbeitende, um Staub von der Kleidungsoberfläche zu entfernen?
  3. Was ist der Hauptgrund dafür, die Temperatur im Reinraum, insbesondere im Belichtungsbereich, sehr streng konstant zu halten?
  4. Was wird bei Präzisionsanlagen wie Belichtungsgeräten verwendet, um den Einfluss von über den Boden übertragenen Schwingungen zu verringern?
  5. Welche Einrichtung führt im Reinraum Ionen in die Luft ein, um die Aufladung von Wafern und Anlagen zu neutralisieren?