製程材料(氣體與藥液)

在半導體廠中,超純水用量最大的用途為下列何者?

  1. A作業人員的飲用水
  2. B僅用於空調的加濕
  3. C晶圓的清洗與沖洗
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正確答案:C. 晶圓的清洗與沖洗

超純水大量用於每道製程都要進行的晶圓清洗,包括以化學品清洗之後的沖洗。大型工廠的用水量一天可達數萬噸,將用過的沖洗水回收並再製成超純水的設備也很重要。為了極限地去除離子、有機物、微粒與溶解氣體,要組合逆滲透膜、離子交換、紫外線氧化、超過濾等來製造。

  • A. 與飲用水是分開管理的。
  • B. 並非僅用於加濕。
  • C. 正確。大量用於清洗與沖洗。
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