離子佈植 與熱擴散相比，離子佈植的主要優點為下列何者？ A可在低溫處理，並能精確控制劑量與深度 B可進行高溫長時間處理 C完全不會對晶體造成損傷 查看答案與解析 正確答案：A. 可在低溫處理，並能精確控制劑量與深度 離子佈植可在室溫附近進行，因此能以光阻作為遮罩，佈植量可藉由累計束電流管理在約±1%的精度。深度也能以能量獨立控制，可處理10¹¹～10¹⁶ cm⁻²的寬廣劑量範圍。熱擴散中表面濃度與深度相互連動，且因高溫而需要氧化膜遮罩。另一方面，離子佈植會對晶體造成損傷，因此佈植後需要退火。