CMP와 세정
SPM(황산과 과산화수소수) 세정 후 헹굼이 불충분할 때 발생하기 쉬운 문제로 알려진 것은?
- A표면에 황산 이온 등이 남아 나중에 흐림(헤이즈)이나 결함의 원인이 된다
- B웨이퍼가 두꺼워진다
- C표면이 n형이 된다
정답과 해설 보기
정답: A. 표면에 황산 이온 등이 남아 나중에 흐림(헤이즈)이나 결함의 원인이 된다
황산은 점성이 높고 표면에 흡착되기 쉬워, 헹굼이 불충분하면 황산 이온이 잔류하고 공기 중의 암모니아 등과 반응하여 황산암모늄 미세 결정이 석출되어 흐림(헤이즈)이나 결함이 생길 수 있습니다. 노광 마스크에서 발생하면 투과율을 떨어뜨리는 성장성 결함(헤이즈)의 원인이 되기도 했습니다. 그래서 온수로 충분히 헹구거나, 황산을 사용하지 않는 세정으로 대체합니다.
- A. 올바릅니다. 잔류한 황산 이온이 흐림이나 결함의 원인이 됩니다.
- B. 웨이퍼가 두꺼워지는 일은 없습니다.
- C. 전도형이 바뀌는 일은 없습니다.