CMP與清洗

下列關於將多片晶圓浸入同一清洗液槽中清洗的批次式清洗之注意事項,何者正確?

  1. A從晶圓溶出或掉落的汙染可能透過液體轉移到其他晶圓(交互汙染)
  2. B只能逐片處理
  3. C完全不使用藥液
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正確答案:A. 從晶圓溶出或掉落的汙染可能透過液體轉移到其他晶圓(交互汙染)

批次式在同一個槽中處理約50片晶圓,處理能力高,但某片晶圓所產生的汙染(金屬、微粒、光阻殘留)會在液體中擴散,有附著到其他晶圓的疑慮。因此液體的更換頻率,以及循環、過濾、濃度的管理很重要,對汙染敏感的步驟或想逐片改變條件的步驟則使用單晶圓式。

  • A. 正確。需注意經由液體造成的交互汙染。
  • B. 批次式是同時處理多片晶圓。
  • C. 批次式也是使用藥液進行清洗。
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