CMP與清洗
CMP研磨頭中圍繞在晶圓周圍的扣環(retainer ring)之作用為下列何者?
- A冷卻晶圓
- B使研磨液著色
- C固定晶圓以免在研磨中飛出,並抑制晶圓周邊部研磨的不均勻
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正確答案:C. 固定晶圓以免在研磨中飛出,並抑制晶圓周邊部研磨的不均勻
扣環是圍繞在研磨頭所固定之晶圓外圍的樹脂環。它在防止晶圓於研磨中橫向飛出的同時,也在比晶圓稍外側處壓住研磨墊,抑制研磨墊在晶圓邊緣隆起或下陷的變形,減少外圍數mm的研磨量不均。環本身也會被研磨墊磨耗而消耗,因此需要定期更換。
CMP與清洗
正確答案:C. 固定晶圓以免在研磨中飛出,並抑制晶圓周邊部研磨的不均勻
扣環是圍繞在研磨頭所固定之晶圓外圍的樹脂環。它在防止晶圓於研磨中橫向飛出的同時,也在比晶圓稍外側處壓住研磨墊,抑制研磨墊在晶圓邊緣隆起或下陷的變形,減少外圍數mm的研磨量不均。環本身也會被研磨墊磨耗而消耗,因此需要定期更換。