プロセス材料(ガス・薬液)

ArF露光用のフォトマスクの基板に使われる材料はどれか。

  1. A合成石英ガラス
  2. Bソーダ石灰ガラス
  3. Cアルミニウム
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正解：A. 合成石英ガラス

ArF露光(193 nm)では、短い波長の光をよく通し、熱膨張が小さい合成石英ガラスがマスク基板に使われます。その上にクロムなどの遮光膜や位相シフト膜でパターンをつくります。EUVマスクでは、熱膨張がさらに小さい特殊なガラスの上に多層膜をつくります。

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