Maat voor hoe gelijkmatig de laagdikte op de zijwanden en bodem van trappen en gaten is in vergelijking met de vlakke delen. ALD scoort zeer goed.
Japanse benaming: ステップカバレッジ
“Stapbedekking (step coverage)” komt voor in 1 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Laagafzetting (CVD, PVD).
Vakgebied: Laagafzetting (CVD, PVD)
Antwoord: A. Ze geeft aan hoe dik de laag op zijwanden en bodems van een trede is in vergelijking met de vlakke delen
Stapdekking geeft aan hoeveel laag er op de zijwanden en bodem van een trede, zoals een sleuf of gat, wordt afgezet ten opzichte van de vlakke delen, bijvoorbeeld als percentage van "laagdikte op de bodem ÷ laagdikte op het bovenvlak". PVD zoals sputteren heeft over het algemeen een lage stapdekking omdat de atomen rechtlijnig bewegen (onderin diepe gaten soms 10 % of minder), CVD heeft een hoge omdat de oppervlaktereactie ook om hoeken heen werkt, en ALD bereikt vrijwel 100 %. Bij barrièrelagen en gatelagen die dun en gelijkmatig in fijne gaten moeten zijn, bepaalt deze maat de keuze van de depositiemethode.
Sputteren CVD ALD (atomic layer deposition) Elektrolytisch plateren (ECP) Elektrostatische chuck (ESC) Gebiedsselectieve depositie (area-selective deposition) HDP-CVD (high-density plasma CVD) LPCVD (low-pressure CVD) Magnetronsputteren PECVD (plasma-enhanced CVD)