Wat is Immersielithografie?

Belichtingsmethode waarbij de ruimte tussen lens en wafer met water is gevuld. De numerieke apertuur kan hoger dan 1 worden, waardoor met een ArF-excimerlaser fijnere patronen mogelijk zijn.

Japanse benaming: 液浸露光

Vakgebied: Lithografie

Vergelijkingen met deze term

EUV- versus DUV-lithografie: golflengte, optiek en kosten vergelekenEUV- en DUV-lithografie (ArF-immersie) vergeleken in een tabel: golflengte, lichtbron, optiek, masker, resolu…

Halfgeleider-rekentools

Calculator voor lithografie-resolutie en focusdiepteResolutie (half-pitch), focusdiepte en pitchsplitsing uit golflengte, NA en k1

Verwante termen

Antireflectiecoating (BARC) ArF-excimeerlaser Chemisch versterkte resist (CAR) EUV-belichting Fasenverschuivingsmasker (phase-shift mask) Fotomasker (reticle) Fotoresist High-NA EUV Line edge roughness (LER) Multi-patterning

Naar de woordenlijst