Wat is Intrinsieke ladingdragerdichtheid?
Dichtheid van thermisch gegenereerde elektronen en gaten in een zuivere halfgeleider (genoteerd als ni). In silicium bij kamertemperatuur ongeveer 1×10¹⁰ cm⁻³; neemt sterk toe met de temperatuur. In thermisch evenwicht geldt n × p = ni².
Japanse benaming: 真性キャリア密度
“Intrinsieke ladingdragerdichtheid” komt voor in 6 oefenvragen uit 2 onderwerpen, bijv. Halfgeleiderfysica, PN-overgang en diode.
Vakgebied: Halfgeleiderfysica