Wat is Intrinsieke ladingdragerdichtheid?

Dichtheid van thermisch gegenereerde elektronen en gaten in een zuivere halfgeleider (genoteerd als ni). In silicium bij kamertemperatuur ongeveer 1×10¹⁰ cm⁻³; neemt sterk toe met de temperatuur. In thermisch evenwicht geldt n × p = ni².

Japanse benaming: 真性キャリア密度

“Intrinsieke ladingdragerdichtheid” komt voor in 6 oefenvragen uit 2 onderwerpen, bijv. Halfgeleiderfysica, PN-overgang en diode.

Vakgebied: Halfgeleiderfysica

Nu oefenen: vragen over Intrinsieke ladingdragerdichtheid

Wat gebeurt er met de intrinsieke ladingdragerdichtheid wanneer de temperatuur van een intrinsieke halfgeleider stijgt?

  1. ADeze neemt toe
  2. BDeze neemt af
  3. CDeze verandert niet
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Deze neemt toe

Bij hogere temperatuur kunnen elektronen uit de valentieband door thermische energie gemakkelijker de bandkloof overbruggen, zodat het aantal elektron-gatparen toeneemt. De intrinsieke ladingdragerdichtheid is ni ∝ T^(3/2)·exp(−Eg/2kT) en verdubbelt bij silicium rond kamertemperatuur ongeveer per 10 °C temperatuurstijging. Deze sterke toename is de oorzaak van de toenemende lekstroom in sperrichting van pn-juncties bij hoge temperatuur, en ook de reden waarom SiC en GaN met een grote bandkloof beter tegen hoge temperaturen bestand zijn.

Wat is het product van de elektronendichtheid n en de gatendichtheid p (n×p) van een halfgeleider in thermisch evenwicht? (ni: intrinsieke ladingdragerdichtheid)

  1. AAltijd 0
  2. BGelijk aan het kwadraat van ni
  3. CGelijk aan het kwadraat van de onzuiverheidsconcentratie
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Gelijk aan het kwadraat van ni

In thermisch evenwicht geldt ook na toevoeging van onzuiverheden n × p = ni² (massawerkingswet). Als het aantal elektronen toeneemt, zijn er meer partners voor recombinatie, zodat het aantal gaten met evenveel afneemt. Als bijvoorbeeld 1×10¹⁶ cm⁻³ donoren aan silicium (ni ≈ 1×10¹⁰ cm⁻³) worden toegevoegd, wordt de gatendichtheid 1×10⁴ cm⁻³. In niet-evenwichtstoestanden met belichting of stroominjectie geldt dit niet en is np > ni².

“Intrinsieke ladingdragerdichtheid” in de toelichting

Vragen met “Intrinsieke ladingdragerdichtheid” (6)

  1. Wat gebeurt er met de intrinsieke ladingdragerdichtheid wanneer de temperatuur van een intrinsieke halfgeleider stijgt?
  2. Wat is het product van de elektronendichtheid n en de gatendichtheid p (n×p) van een halfgeleider in thermisch evenwicht? (ni: intrinsieke ladingdragerdichtheid)
  3. Hoe groot is bij benadering de gatendichtheid in n-type silicium met een donorconcentratie van 1×10¹⁶ cm⁻³ (alle donoren geïoniseerd, intrinsieke ladingdragerdichtheid ni = 1×10¹⁰ cm⁻³)?
  4. Welke waarde ligt het dichtst bij de intrinsieke ladingdragerdichtheid van silicium bij kamertemperatuur?
  5. Wat is de juiste reden dat de ladingdragerdichtheid sterk afneemt wanneer n-type silicium tot zeer lage temperatuur wordt gekoeld?
  6. Wat gebeurt er met de voorwaartse spanning van een siliciumdiode bij constante stroom wanneer de temperatuur stijgt?

Verwante termen

Bandgap (bandkloof) SiC (siliciumcarbide) GaN (galliumnitride) Numerieke apertuur (NA) GaAs (galliumarsenide) Acceptor Auger-recombinatie Diffusielengte Donor Effectieve massa

Naar de woordenlijst