Halfgeleiderfysica

Wat is het product van de elektronendichtheid n en de gatendichtheid p (n×p) van een halfgeleider in thermisch evenwicht? (ni: intrinsieke ladingdragerdichtheid)

  1. AAltijd 0
  2. BGelijk aan het kwadraat van ni
  3. CGelijk aan het kwadraat van de onzuiverheidsconcentratie
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Gelijk aan het kwadraat van ni

In thermisch evenwicht geldt ook na toevoeging van onzuiverheden n × p = ni² (massawerkingswet). Als het aantal elektronen toeneemt, zijn er meer partners voor recombinatie, zodat het aantal gaten met evenveel afneemt. Als bijvoorbeeld 1×10¹⁶ cm⁻³ donoren aan silicium (ni ≈ 1×10¹⁰ cm⁻³) worden toegevoegd, wordt de gatendichtheid 1×10⁴ cm⁻³. In niet-evenwichtstoestanden met belichting of stroominjectie geldt dit niet en is np > ni².

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Halfgeleiderfysica

  1. Wat is de oorzaak van een diffusiestroom in een halfgeleider?
  2. Wat is een typische factor die de levensduur van minderheidsladingdragers in silicium verkort?
  3. Wat is de kristalstructuur van eenkristallijn silicium?
  4. Wat is de driftsnelheid van een elektron met een mobiliteit van 1000 cm²/V·s in een elektrisch veld van 100 V/cm?
  5. Hoe heet de massa die wordt ingevoerd om de beweging van elektronen in een kristal, vanuit de reactie op een externe kracht, op dezelfde manier als die van vrije elektronen te behandelen?