Welk gas wordt soms gebruikt als oxidator wanneer met silaan door CVD siliciumoxide- of oxynitridelagen worden gemaakt?

Antwoord: C. Distikstofmonoxide (N2O)

Distikstofmonoxide (N2O) wordt bij plasma-CVD gebruikt als oxidator die met silaan reageert tot siliciumoxide, en de laag kan bij een lage temperatuur van ca. 300 tot 400 °C worden afgezet. Omdat het zachter reageert dan zuurstof, vormen zich in de gasfase moeilijk deeltjes, en afhankelijk van de omstandigheden kan ook een oxynitridelaag (SiON) met opgenomen stikstof worden gemaakt. Omdat bij oxynitridelagen de brekingsindex kan worden afgestemd, worden ze ook gebruikt als anti-reflectielaag voor belichting. Argon en helium zijn inerte gassen.