Oxidatie en diffusie

Hoe heet het verschijnsel waarbij bij LOCOS onder het nitridemasker een dun nitride aan het siliciumoppervlak ontstaat, waardoor het latere gate-oxide plaatselijk dun of defect wordt?

  1. ADishing
  2. BBird's beak
  3. CKooi-effect (white ribbon)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Kooi-effect (white ribbon)

Tijdens veldoxidatie kan nitridefilm met waterdamp reageren tot ammoniak, waardoor het siliciumoppervlak onder de rand van de nitridefilm wordt genitrideerd. Als dit nitride als een wit lint achterblijft, wordt bij de latere gate-oxidatie de oxidefilm daar dun, wat doorslagproblemen veroorzaakt. Het heet het Kooi-effect, omdat Kooi et al. het in 1976 rapporteerden, en wordt aangepakt met een opofferingsoxidatie, waarbij eerst wordt geoxideerd en het nitride samen met het oxide wordt verwijderd.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Wat is de belangrijkste reden dat de drukspanning van door thermische oxidatie gevormde oxidefilm bij oxidatie bij hoge temperatuur, vanaf ongeveer 950 °C, kleiner wordt?
  2. Wat is de juiste reden dat SiO2-film als masker voor diffusie van boor en fosfor kan worden gebruikt, maar nauwelijks als masker voor gallium en aluminium werkt?
  3. Welke uitleg is juist over het verschijnsel dat de diffusiecoëfficiënt van bijvoorbeeld arseen met de concentratie verandert in gebieden waar de onzuiverheidsconcentratie voldoende hoger is dan de intrinsieke dragerdichtheid?
  4. Welke eigenschap is juist bij thermische oxidatie van polykristallijn silicium (polysilicium) met veel onzuiverheden?
  5. Welke vergelijking van droge oxidatie (O2) en natte oxidatie (H2O) bij thermische oxidatie van silicium is juist?