Oxidatie en diffusie

Welke uitleg is juist over het verschijnsel dat de diffusiecoëfficiënt van bijvoorbeeld arseen met de concentratie verandert in gebieden waar de onzuiverheidsconcentratie voldoende hoger is dan de intrinsieke dragerdichtheid?

  1. ABij hoge concentratie neemt de diffusiecoëfficiënt met de concentratie toe, onder meer doordat meer elektronen en geladen puntdefecten aanwezig zijn
  2. BBij hoge concentratie diffundeert de onzuiverheid helemaal niet meer
  3. CDe diffusiecoëfficiënt is onafhankelijk van de concentratie en altijd constant
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Bij hoge concentratie neemt de diffusiecoëfficiënt met de concentratie toe, onder meer doordat meer elektronen en geladen puntdefecten aanwezig zijn

Bij een hoge onzuiverheidsconcentratie verschuift het Fermi-niveau en neemt de concentratie van geladen vacatures en interstitieel silicium toe. Bovendien duwt het interne veld door het verschil in verdeling van onzuiverheidsionen en elektronen de ionen voort, zodat de diffusiecoëfficiënt toeneemt met de concentratie. Daarom heeft de verdeling bij diffusie met hoge concentratie meer een kistvorm met een vlakke bovenkant en steile flank dan een eenvoudige erfc- of Gauss-verdeling. De steile overgangen van arseen-source/drain zijn ook een gevolg van deze eigenschap.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Welke eigenschap is juist bij thermische oxidatie van polykristallijn silicium (polysilicium) met veel onzuiverheden?
  2. Welke vergelijking van droge oxidatie (O2) en natte oxidatie (H2O) bij thermische oxidatie van silicium is juist?
  3. Hoeveel silicium wordt ongeveer verbruikt wanneer een SiO2-film met dikte x door thermische oxidatie van silicium wordt gevormd?
  4. Welke relatie tussen de diffusiecoëfficiënt van onzuiverheden in silicium en de temperatuur is juist?
  5. Welke methode wordt hoofdzakelijk gebruikt voor elementisolatie in fijne LSI's?

Vergelijkingen bij dit onderwerp