Wat is de juiste reden dat SiO2-film als masker voor diffusie van boor en fosfor kan worden gebruikt, maar nauwelijks als masker voor gallium en aluminium werkt?

Antwoord: B. Omdat gallium en aluminium zeer snel in SiO2 diffunderen

Boor en fosfor diffunderen in SiO2 veel langzamer dan in silicium, dus een oxidefilm kan ze tegenhouden. Gallium en aluminium diffunderen daarentegen snel door SiO2 en zijn daarom niet geschikt voor selectieve diffusie met een oxidefilm als masker. Aluminium wordt, omdat het een lage oplosbaarheid heeft en snel tot grote diepte diffundeert, soms gebruikt voor diepe overgangen van vermogenscomponenten. Het is een van de redenen dat voor p-type onzuiverheid in silicium voornamelijk boor wordt gebruikt.