Nederlands
Menu

Oxidatie en diffusie

Hoe heet het verschijnsel waarbij de diffusie van boor en fosfor tijdens het oxideren van silicium sneller is dan wanneer niet wordt geoxideerd?

  1. AElektromigratie
  2. BChanneling
  3. COxidatieversterkte diffusie (OED)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Oxidatieversterkte diffusie (OED)

Naarmate de oxidatie voortschrijdt, wordt overtollig interstitieel silicium van het grensvlak in het silicium geïnjecteerd. Boor en fosfor diffunderen gemakkelijk in combinatie met interstitieel silicium, dus tijdens oxidatie is de diffusie enkele malen sneller (oxidatieversterkte diffusie, OED). Antimoon daarentegen diffundeert voornamelijk via vacatures, dus als het interstitieel silicium toeneemt, nemen de vacatures af en wordt het trager (oxidatieonderdrukte diffusie). Dit verschil was ook een aanwijzing voor het onderzoek naar diffusiemechanismen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Welke afwijking van het Deal-Grove-model is bekend bij het maken van dunne oxidefilms van enkele tientallen nm of minder met droge oxidatie?
  2. Hoe heet het verschijnsel waarbij bij LOCOS onder het nitridemasker een dun nitride aan het siliciumoppervlak ontstaat, waardoor het latere gate-oxide plaatselijk dun of defect wordt?
  3. Wat is de belangrijkste reden dat de drukspanning van door thermische oxidatie gevormde oxidefilm bij oxidatie bij hoge temperatuur, vanaf ongeveer 950 °C, kleiner wordt?
  4. Wat is de juiste reden dat SiO2-film als masker voor diffusie van boor en fosfor kan worden gebruikt, maar nauwelijks als masker voor gallium en aluminium werkt?
  5. Welke uitleg is juist over het verschijnsel dat de diffusiecoëfficiënt van bijvoorbeeld arseen met de concentratie verandert in gebieden waar de onzuiverheidsconcentratie voldoende hoger is dan de intrinsieke dragerdichtheid?