酸化・拡散

シリコンを酸化している間に、ボロンやリンの拡散が酸化していないときより速くなる現象を何と呼ぶか。

  1. Aエレクトロマイグレーション
  2. Bチャネリング
  3. C酸化増速拡散(OED)
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正解:C. 酸化増速拡散(OED)

酸化が進むと、界面で余った格子間シリコンがシリコン中に注入されます。ボロンやリンは格子間シリコンと組んで拡散しやすいため、酸化中は拡散が速くなります。これを酸化増速拡散(OED)といいます。逆にアンチモンは空孔を介して拡散するため、酸化中は遅くなります。

  • A. エレクトロマイグレーションは電流による配線の金属原子の移動です。
  • B. チャネリングはイオン注入で結晶のすき間を深く進む現象です。
  • C. 正しい。酸化で注入された格子間シリコンにより拡散が速くなります。
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