Lithografie

Welchen Zweck hat eine Phasenschiebermaske?

  1. ADie Phase des durch benachbarte Öffnungen tretenden Lichts zu ändern und durch Interferenz Auflösung und Kontrast zu erhöhen
  2. BDie Maske leichter zu machen
  3. CDie Lichtmenge der Belichtung zu verdoppeln
Antwort und Erläuterung anzeigen

Antwort: A. Die Phase des durch benachbarte Öffnungen tretenden Lichts zu ändern und durch Interferenz Auflösung und Kontrast zu erhöhen

Eine Phasenschiebermaske verschiebt die Phase des durch einen Teil der Maske tretenden Lichts um 180°, sodass sich die Amplituden an der Grenze des Lichts benachbarter Strukturen auslöschen, dunkle Bereiche dunkler werden und der Kontrast an den Strukturgrenzen steigt. Es gibt den Alternating-Typ (Levenson), bei dem die Phase benachbarter Strukturen abwechselnd invertiert wird, und den Halbton-Typ, bei dem der lichtabschirmende Bereich als phasenumkehrender Film (MoSi usw.) ausgeführt ist, der etwas Licht durchlässt; der Halbton-Typ wird bei der ArF-Belichtung breit eingesetzt.

Dieses Thema üben Zur Themenseite

Weitere Fragen zu Lithografie

  1. Was ist die Überlagerungsgenauigkeit (Overlay) in der Lithografie?
  2. Welche Aussage zu chemisch verstärkten Resists ist richtig?
  3. Welcher Verkleinerungsfaktor bei der Projektion des Maskenmusters auf den Wafer ist bei heutigen Belichtungsanlagen (Scannern) üblich?
  4. Welches Merkmal von Scanner-Belichtungsanlagen ist richtig?
  5. Welches Merkmal der bei der EUV-Belichtung verwendeten Masken ist richtig?

Vergleiche zu diesem Thema