Nederlands
Menu

Ionenimplantatie

Waarom wordt voor het maken van een ondiepe p-laag soms BF2⁺-ionen in plaats van boor alleen geïmplanteerd?

  1. AOmdat BF2⁺ als n-type dopeerstof werkt
  2. BOmdat het apparaat met BF2⁺ goedkoper kan zijn
  3. COmdat het een zwaar moleculair ion is, waardoor boor bij dezelfde versnellingsenergie ondieper doordringt
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Omdat het een zwaar moleculair ion is, waardoor boor bij dezelfde versnellingsenergie ondieper doordringt

Boor heeft massa 11 en is een lichte dopeerstof die ook bij lage energie gemakkelijk diep doordringt. Bij implantatie als BF2⁺ (massa 49) krijgt het boor-atoom, wanneer het molecuul bij de botsing uiteenvalt, slechts 11/49 (ongeveer 22%) van de totale energie, zodat ondiep kan worden geïmplanteerd. Bundels met extreem lage energie waaieren door ruimtelading uit en leveren moeilijk stroom, dus deze methode is gebruikt. Fluor helpt bij amorfisering, maar heeft ook bijwerkingen zoals bellen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Hoe heet het verschijnsel waarbij in de beginfase van de anneal na ionenimplantatie de diffusie van boor en dergelijke tijdelijk sneller verloopt door de invloed van interstitieel silicium dat door de implantatie is ontstaan?
  2. Welke ionenimplanter wordt gebruikt om, zoals bij de vorming van source en drain, een grote dosis in korte tijd te implanteren?
  3. Wat gebeurt er in het algemeen met de laagweerstand van de geïmplanteerde laag als bij dezelfde annealomstandigheden de ionendosis wordt verhoogd?
  4. Waarop moet worden gelet bij het gebruik van fotoresist als masker voor ionenimplantatie?
  5. Welk voordeel van plasma doping, waarbij de wafer rechtstreeks aan een dopeerstofhoudend plasma wordt blootgesteld en ionen met lage energie worden geïmplanteerd, is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp