Hoe heet het verschijnsel dat bij het etsen van een gate de zijkant van het patroon nabij de grens met de onderliggende isolatiefilm zijwaarts wordt uitgehold?

Antwoord: B. Notching

Notching is het verschijnsel dat nadat het etsen de onderliggende isolatiefilm heeft bereikt, positieve lading van ionen zich op het oppervlak van de isolatiefilm ophoopt, de baan van latere ionen zijwaarts wordt afgebogen en de voet van het patroon zijwaarts wordt uitgehold. Het treedt vooral gemakkelijk op aan de rand van een patroon, waardoor de gatelengte lokaal verandert en de transistoreigenschappen gaan spreiden. Men pakt het aan door de opladen te onderdrukken met gepulst plasma of een bias met lage frequentie en door de condities van het overetsen aan te passen.