Hoe heet het verschijnsel dat de etssnelheid afneemt naarmate het patroon smaller en dieper wordt?

Antwoord: B. Aspectverhoudingsafhankelijk etsen (ARDE, microloading-effect)

Op de bodem van smalle, diepe gaten komen radicalen moeilijk aan omdat zij tegen de wand botsen en verloren gaan of ionen door lading worden afgebogen, en reactieproducten worden moeilijk afgevoerd, zodat de etssnelheid lager is naarmate de aspectverhouding groter is. Dit verschijnsel is ARDE (microloading-effect): op dezelfde wafer worden smalle gaten ondieper en brede gaten dieper, zodat de diepte niet voor alle afmetingen gelijk is. Het wordt gecompenseerd met etsstoplagen en aangepaste condities.