Opkomende geheugentechnologieën

Welk materiaal wordt veel gebruikt als tunnelbarrièrelaag in de magnetische tunneljunctie (MTJ) van MRAM en levert een grote tunnelmagnetoweerstandsverhouding?

  1. AMagnesiumoxide (MgO)
  2. BKoper
  3. CPolykristallijn silicium
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Magnesiumoxide (MgO)

Bij een kristallijne MgO-tunnelbarrière tunnelen selectief alleen elektronen met een bepaalde spinsymmetrie, wat bij kamertemperatuur een grote TMR-verhouding van enkele honderden procenten oplevert (bij het vroegere amorfe Al2O3 enkele tientallen procenten). Deze techniek, in 2004 afzonderlijk gepubliceerd door het Japanse AIST en IBM, vergrootte het weerstandsverschil tussen 0 en 1, maakte hogere capaciteiten van HDD-leeskoppen mogelijk en leidde ook tot de praktische toepassing van MRAM.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Opkomende geheugentechnologieën

  1. Hoe heet bij ReRAM de initialisatiestap waarbij eerst een relatief hoge spanning wordt aangelegd om een geleidend filament te vormen?
  2. Welke uitspraak over de kenmerken van SOT-MRAM is juist?
  3. Welke reden waarom MRAM aandacht krijgt als embedded niet-vluchtig geheugen voor onder meer microcontrollers is juist?
  4. Welk probleem treedt bij MRAM vaak op wanneer het geheugenelement (MTJ) te klein wordt?
  5. Waarom zijn MTJ's met een loodrecht op het filmvlak gerichte magnetisatie (perpendiculaire MTJ) in recente STT-MRAM de hoofdstroom geworden?

Vergelijkingen bij dit onderwerp