CMP en reiniging
Welke reiniging, die wordt onderzocht en toegepast om deeltjes te verwijderen zonder fijne patronen te laten omvallen, blaast fijne deeltjes van onder meer koude kooldioxide of argon op het oppervlak?
- ASPM-reiniging
- BBorstelscrubreiniging
- CCryo-aerosolreiniging
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Cryo-aerosolreiniging
Bij cryo-aerosolreiniging worden onder druk gebrachte en gekoelde argon, stikstof of kooldioxide in vacuüm uit een nozzle gespoten en worden de kleine vaste deeltjes (aerosol) die door expansie ontstaan op de wafer geblazen, waarbij ze door de botsing deeltjes van het oppervlak wegslaan. Omdat geen vloeistof wordt gebruikt, is er geen omvallen van patronen bij het drogen en geen schade of corrosie door chemicaliën, en omdat de deeltjes sublimeren en niet achterblijven, is de methode geschikt voor reiniging van fijne structuren en koperbedrading.