Wat is het belangrijkste doel van het gebruik van IPA (isopropylalcohol) bij het drogen van wafers na reiniging?

Antwoord: A. Het ontstaan van watermarks (droogvlekken) voorkomen

Als water op het oppervlak achterblijft en vanzelf droogt, blijven opgelost silica en vuil achter en ontstaan watermarks (vlekken), vooral op hydrofobe siliciumoppervlakken. IPA mengt goed met water en heeft een kleine oppervlaktespanning, circa 1/3 van die van water, zodat het water kan worden vervangen en snel kan worden gedroogd, of water van de wafer kan worden getrokken door het verschil in oppervlaktespanning met op het vloeistofoppervlak geblazen IPA-damp (Marangoni-effect); zo worden vlekken en het omvallen van fijne patronen voorkomen.