Waarom worden in belichtingsgebieden die chemisch versterkte resist gebruiken basische moleculaire verontreinigingen zoals ammoniak en aminen bijzonder streng beheerst?

Antwoord: C. Omdat het door belichting ontstane zuur wordt geneutraliseerd en defecten ontstaan, zoals bovenaan het patroon een uitstekende rand (T-top)

Bij chemisch versterkte resist werkt de zeer kleine hoeveelheid zuur die door belichting ontstaat als katalysator en verandert bij verhitting na belichting (PEB) de oplosbaarheid. Als basische stoffen uit de lucht in het resistoppervlak doordringen, wordt het zuur geneutraliseerd en verloopt de reactie alleen nabij het oppervlak niet, waardoor een T-topvorm ontstaat waarbij de bovenkant van het patroon uitsteekt. Zelfs ammoniak op ppb-niveau heeft effect, zodat chemische filters worden gebruikt in belichtings- en coat-developapparatuur.