Dans les zones d'exposition utilisant des résines à amplification chimique, pourquoi maîtrise-t-on particulièrement strictement les contaminants moléculaires basiques comme l'ammoniac et les amines ?

Réponse : C. Parce que l'acide généré par l'exposition est neutralisé, ce qui provoque des défauts comme un surplomb en haut du motif (T-top)

Dans une résine à amplification chimique, l'infime quantité d'acide générée par l'exposition agit comme catalyseur et modifie la solubilité lors du recuit après exposition (PEB). Si des substances basiques de l'air pénètrent la surface de la résine, l'acide est neutralisé, la réaction ne progresse pas près de la surface, et le haut du motif forme un surplomb en T (T-top). L'ammoniac à l'échelle du ppb suffisant à produire un effet, des filtres chimiques équipent les équipements d'exposition et de couchage-développement.