Nederlands
Menu

Cleanroom en productieapparatuur

Wat is de belangrijkste reden waarom wafers niet met blote handen mogen worden aangeraakt?

  1. ANatrium enz. uit huidvet en zweet verontreinigt de wafer en schaadt de eigenschappen en betrouwbaarheid van de devices
  2. BOmdat wafers door lichaamstemperatuur smelten
  3. COmdat vingerafdrukken de kristalrichting van de wafer veranderen
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Natrium enz. uit huidvet en zweet verontreinigt de wafer en schaadt de eigenschappen en betrouwbaarheid van de devices

Huidvet en zweet van de handen bevatten organische stoffen en alkalimetalen zoals natrium. Natrium wordt een mobiel ion in de oxidefilm en verschuift de drempelspanning van transistoren, terwijl organische stoffen defecten bij depositie en binding veroorzaken. Wafers worden daarom behandeld met speciale handschoenen, pincetten, transportrobots enz. Ook met handschoenen wordt het waferoppervlak niet aangeraakt en worden alleen de randen vastgepakt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Cleanroom en productieapparatuur

  1. Welke uitspraak over de reinheidsklassen van ISO 14644-1 is juist?
  2. Welke cleanroommethode houdt de reinheid in stand door schone lucht uit een deel van het plafond te blazen en met de lucht in de ruimte te mengen en te verdunnen? De reinheid is lager dan bij unidirectionele stroming, maar de installatiekosten zijn laag.
  3. Welk filter wordt gebruikt om moleculaire verontreinigingen (AMC) zoals ammoniak en organische stoffen uit de lucht van een cleanroom te verwijderen?
  4. Welk apparaat in de luchtbehandeling van een cleanroom verwijdert stof uit de aangevoerde buitenlucht, regelt temperatuur en vochtigheid en voert die vervolgens toe aan de circulatielucht in de ruimte?
  5. Welk geautomatiseerd magazijn in het geautomatiseerde transportsysteem van een halfgeleiderfabriek slaat FOUP's tijdelijk op totdat ze naar de volgende processtap gaan?