Wat is de belangrijkste reden om de temperatuur in een cleanroom, vooral in het belichtingsgebied, zeer nauwkeurig constant te houden?

Antwoord: B. Om positie- en maatfouten door thermische uitzetting van wafers en apparatuur te voorkomen

De thermische uitzettingscoëfficiënt van silicium is circa 2,6×10⁻⁶ /K, en een wafer van 300 mm zet bij een temperatuurverandering van slechts 0,1 ℃ circa 80 nm uit of krimpt even veel. Omdat bij belichting een overlaynauwkeurigheid op nanometerniveau vereist is, veroorzaakt zelfs een geringe temperatuurverandering positiefouten. In en rond belichtingsapparatuur wordt de temperatuur daarom binnen een smal bereik van ±0,1 ℃ of minder beheerst. Het is niet alleen voor het comfort van operators of voor de verlichting.