ボッシュプロセス(Deep RIE)란?

ぼっしゅぷろせす

エッチングと側壁保護膜の堆積を短い周期で交互に繰り返し、シリコンに深く垂直な穴や溝を掘るドライエッチング技術。MEMSやTSVの加工に使われる。

일본어 명칭: ボッシュプロセス(Deep RIE)

분야: MEMS와 센서

관련 용어

加速度センサー 陽極接合 犠牲層エッチング 静電容量検出 MEMS コリオリ力 ジャイロスコープ スティクション ピエゾ抵抗効果 ホール素子

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