플라즈마 식각 장치에서 웨이퍼 외주를 둘러싸는 포커스 링의 주된 역할은?

정답: B. 웨이퍼 외주부의 플라즈마나 시스의 상태를 정돈하여, 외주 부근에서도 중앙과 같은 형상·속도로 가공할 수 있게 한다

웨이퍼의 외주 부근에서는 전극 가장자리의 영향으로 시스(이온을 가속하는 층)의 형태가 휘어, 이온이 비스듬히 입사하여 구멍이 기울거나 식각 속도가 달라집니다. 웨이퍼를 둘러싸는 실리콘이나 석영 포커스 링으로 전극을 바깥쪽으로 연장한 것처럼 보이게 하여 시스를 평평하게 유지하면, 외주 수 mm의 칩까지 중앙과 같게 가공할 수 있습니다. 링은 플라즈마에 깎여 효과가 바뀌므로 높이를 보정하거나 정기적으로 교체합니다.

• A. 뒷면을 식각하기 위한 부품이 아닙니다.
• B. 맞습니다. 외주부 가공을 중앙과 맞추기 위한 부품입니다.
• C. 웨이퍼 냉각은 정전 척과 뒷면 가스로 합니다.