실리콘 포토닉스
실리콘 도파로와 광변조기, 링 공진기, Ge 광검출기 등의 광소자와 통신 파장 대역의 기초, WDM과 CPO를 이용한 데이터센터 광 인터커넥트, 제조와 평가의 핵심을 객관식 문제로 학습합니다.
—내 정답률
0 / 50푼 문제 수
실리콘 포토닉스: 핵심 정리
실리콘 포토닉스는 CMOS와 같은 실리콘 제조 기술을 사용하여 빛을 전달하는 도파로와 변조기, 광검출기 등을 하나의 칩에 집적하는 기술입니다. 실리콘은 통신에 사용하는 1.31~1.55 µm 대역의 빛을 거의 흡수하지 않고, 주위 산화막과의 굴절률 차이가 크기 때문에 빛을 작은 회로에 강하게 가둘 수 있습니다.
AI 학습 등으로 데이터센터의 통신량이 급증하면서, 전기 배선에서는 고속화에 따라 손실과 소비 전력이 계속 늘고 있습니다. 광 트랜시버나 스위치 IC 바로 근처에 광부품을 실장하는 CPO 등의 광 인터커넥트는 이러한 과제를 해결하는 핵심 기술로 주목받고 있습니다.
실리콘 포토닉스 전체 문제 (50)
- 장거리 광섬유 통신에서 파장 1.55 µm 부근(C밴드)이 널리 사용되는 주된 이유는?
- 데이터센터 내의 비교적 짧은 거리의 광 연결에서 파장 1.31 µm 부근(O밴드)이 자주 사용되는 이유로 올바른 것은?
- 파장 1.55 µm인 빛의 광자 에너지와 실리콘 도파로 속에서의 거동의 조합으로 올바른 것은? (E [eV] ≈ 1.24 / λ [µm])
- 실리콘 도파로(굴절률 약 3.5)를 산화막(SiO2, 굴절률 약 1.45)으로 둘러싼 구조의 특징으로 올바른 것은?
- 굴절률 3.48인 실리콘에서 굴절률 1.45인 산화막으로 빛이 진행할 때, 전반사가 일어나는 임계각(경계면의 법선으로부터 잰 각도)에 가장 가까운 것은?
- 전파 손실이 2 dB/cm인 실리콘 도파로를 빛이 5 mm 진행했을 때, 출구에 남는 빛의 파워 비율에 가장 가까운 것은?
- 출력 +3 dBm의 레이저광이 합계 10 dB의 손실(광섬유와의 결합, 도파로, 변조기 등)을 거쳐 광검출기에 도달했다. 수신 광 파워에 가장 가까운 것은?
- 실리콘 포토닉스에서 사용되는 SOI 웨이퍼의 매립 산화막(BOX층)의 주된 역할은?
- 양쪽에 얇은 실리콘 판(슬래브)을 남기고 얕게 식각한 리브 도파로가 실리콘 광변조기에 자주 사용되는 주된 이유는?
- 광섬유와 실리콘 광회로를 연결하는 그레이팅 커플러의 장점으로 올바른 것은?
- 칩 단면에서 광섬유와 결합하는 엣지 커플러의, 그레이팅 커플러와 비교한 특징으로 올바른 것은?
- 엣지 커플러에서 칩 끝을 향해 실리콘 도파로의 폭을 점점 가늘게 하는 역테이퍼 구조가 사용되는 이유는?
- 표준 단일 모드 광섬유에서 오는 빛을 실리콘 광회로에서 받을 때, 편광이 문제가 되는 이유로 올바른 것은?
- 마하-젠더 변조기가 빛의 위상 변화를 빛의 세기 변화로 바꾸는 원리로 올바른 것은?
- 실리콘 광변조기에서 전기 신호로 굴절률을 바꾸는 방법으로 캐리어 분산 효과(플라즈마 분산 효과)가 사용되는 이유는?
- 고속 실리콘 변조기에서 위상 시프터의 pn 접합에 역바이어스를 걸어 공핍층의 폭을 바꾸는 방식(공핍형)이 많이 사용되는 이유는?
- 마하-젠더 변조기의 성능을 나타내는 VπL(브이파이엘)의 설명으로 올바른 것은?
- 실리콘 링 공진기가 특정 파장의 빛에만 강하게 반응하는 이유로 올바른 것은?
- 링 공진기를 사용한 광회로에서 링 근처에 히터를 두어 온도를 제어하는 경우가 많은 이유는?
- 링 공진기의 둘레를 짧게 했을 때의 변화로 올바른 것은?
- 실리콘 포토닉스에서 실리콘 도파로와 함께 질화실리콘(SiN) 도파로를 조합하는 경우가 있다. SiN 도파로의 특징으로 올바른 것은?
- 실리콘 광회로에서 통신 파장의 광검출기에 게르마늄(Ge)이 널리 사용되는 이유로 올바른 것은?
- 실리콘 위에 성장시킨 게르마늄 광검출기에서 암전류가 커지기 쉬운 주된 원인은?
- 파장 1.55 µm에서 양자 효율 80%인 포토다이오드의 수광 감도(1 W의 빛당 흐르는 전류)에 가장 가까운 것은? (R [A/W] ≈ 양자 효율 × λ [µm] / 1.24)
- 광 수신기에서 포토다이오드 바로 뒤에 놓이는 트랜스임피던스 증폭기(TIA)의 역할은?
- 실리콘 광회로에 레이저를 집어넣는 방법 중 이종 집적(헤테로지니어스 집적)의 설명으로 올바른 것은?
- 실리콘 광회로에 레이저와 함께 광 아이솔레이터를 집적하기 어려운 이유로 올바른 것은?
- 파장 분할 다중화(WDM)의 설명으로 올바른 것은?
- 데이터센터용 광 트랜시버의 CWDM(저밀도 파장 분할 다중화)에서는, 예를 들어 1271, 1291, 1311, 1331 nm처럼 20 nm 간격으로 파장을 배치한다. 간격을 넓게 잡는 주된 이유는?
- C밴드(파장 1.55 µm 부근)의 파장 분할 다중화에서 주파수 간격 100 GHz는 파장 간격으로 환산하면 약 얼마인가? (Δλ ≈ λ² × Δf / c, c = 3×10⁸ m/s)
- 광 트랜시버에서 4가닥의 광섬유에 1파장씩 신호를 보내는 병렬 방식과, 4개의 파장을 한 가닥의 광섬유로 묶는 CWDM 방식의 비교로 올바른 것은?
- 광 송신 신호의 품질을 나타내는 소광비의 설명으로 올바른 것은?
- 랙을 넘나드는 수 m 이상의 고속 연결에서, 구리 케이블이나 기판 배선보다 광섬유가 유리해지는 주된 이유는?
- 스위치의 전면 패널에 꽂아 사용하는 플러거블 광 트랜시버의 장점으로 올바른 것은?
- 광 송수신 부품을 스위치 IC와 같은 패키지에 실장하는 CPO(Co-Packaged Optics)의 과제로 올바른 것은?
- CPO에서는 레이저 광원을 스위치 IC 패키지 밖에 두고 광섬유로 빛만 공급하는 외부 레이저 광원이 자주 검토된다. 그 주된 이유는?
- 광 트랜시버의 '리니어 드라이브'(리니어 플러거블 광학, LPO 등으로 불림)의 개념으로 올바른 것은?
- DSP를 생략한 리니어 드라이브 광 트랜시버의 과제로 올바른 것은?
- 데이터센터 내 광 연결에서 널리 사용되는 강도 변조·직접 검파(IM-DD) 방식에서 PAM4를 사용할 때, 4가지 값으로 바꾸고 있는 것은?
- PAM4로 1파장당 약 106 Gb/s(오류 정정 부호 등을 포함)의 신호를 보낼 때의 심볼 레이트(1초당 심볼 수)에 가장 가까운 것은?
- 데이터센터 간을 잇는 수십 km 이상의 연결 등에 사용되는 코히어런트 방식의, IM-DD 방식과 비교한 특징으로 올바른 것은?
- 800 Gb/s 광 트랜시버의 소비 전력이 16 W일 때, 1비트당 에너지는 얼마인가?
- 총 51.2 Tb/s의 대역을 가진 스위치에서 모든 광 연결을 1비트당 5 pJ로 수행할 때, 광 연결의 소비 전력에 가장 가까운 것은?
- 파장 850 nm 부근의 VCSEL과 다중 모드 광섬유를 조합한 광 연결의 특징으로 올바른 것은?
- 단일 모드 광섬유를 실리콘 광 칩에 고정할 때, 레이저광을 실제로 통과시켜 출력을 측정하면서 위치를 맞추는 액티브 얼라인먼트가 자주 사용되는 이유는?
- 실리콘 포토닉스가 반도체 공장에서의 양산에 적합하다고 하는 주된 이유는?
- 실리콘 도파로의 전파 손실(dB/cm)의 주된 원인 중 하나로 꼽히는 것은?
- 실리콘 도파로의 전파 손실을 측정하는 컷백법의 설명으로 올바른 것은?
- 광부품과 스위치 IC 등을 하나의 패키지에 넣는 CPO에서, 조립 전에 웨이퍼 상태로 광학 특성을 검사하는 것이 특히 중요해지는 이유는?
- 광소자를 만든 칩(PIC)과 드라이버나 TIA 등 전자 회로 칩(EIC)을 따로 만들어 적층하여 연결하는 구성이 사용되는 이유로 올바른 것은?
소자의 다른 분야
- DRAM 1T1C 셀, 리프레시, 읽기 동작
- SRAM과 플래시 메모리 6T 셀, NAND와 NOR, MLC/TLC
- 차세대 메모리 MRAM, PCM, ReRAM, FeRAM
- CPU와 아키텍처 파이프라인, 캐시 메모리, 폰 노이만 구조
- 전력 반도체 SiC, GaN, IGBT, 2차원 전자 가스
- 이미지 센서와 광소자 CMOS 이미지 센서, 후면 조사(BSI), LED
- 화합물 반도체 GaAs, GaN, InP, 직접·간접 밴드갭
- 첨단 트랜지스터(FinFET과 GAA) 단채널 효과, 하이-k/메탈 게이트, 스트레인
- MEMS와 센서 가속도 센서, 희생층 식각, 홀 센서
- 차량용 반도체와 기능 안전 AEC-Q100, ISO 26262, ASIL