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Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques)

Quelle est la composition principale correcte des résines positives largement utilisées pour l'exposition en raie g et raie i ?

  1. APolyéthylène et sel
  2. BPoudre métallique et eau
  3. CRésine novolaque et photosensibilisant à base de diazonaphtoquinone (DNQ)
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Réponse : C. Résine novolaque et photosensibilisant à base de diazonaphtoquinone (DNQ)

Les résines positives pour raies g et i associent une résine novolaque soluble en milieu alcalin à un photosensibilisant à base de diazonaphtoquinone (DNQ) qui inhibe sa dissolution. Sous la lumière, la DNQ se décompose en acide carboxylique, qui favorise au contraire la dissolution alcaline : les zones exposées se dissolvent au développement. La novolaque absorbant fortement les longueurs d'onde plus courtes que celle du KrF, elle a été remplacée par les résines à amplification chimique en KrF et ArF.

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