Wat is de juiste samenstelling van de positieve resist die veel is gebruikt voor g-lijn- en i-lijnbelichting?

Antwoord: C. Novolakhars en een fotogevoelig middel op basis van diazonaftochinon (DNQ)

Positieve resist voor g-lijn en i-lijn is een mengsel van novolakhars, dat in alkali oplosbaar is, en een fotogevoelig middel op basis van diazonaftochinon (DNQ), dat het oplossen belemmert. Bij belichting ontleedt DNQ tot carbonzuur, dat juist het oplossen in alkali bevordert, zodat de belichte delen bij het ontwikkelen oplossen. Novolak absorbeert licht met een kortere golflengte dan KrF sterk, dus bij KrF en ArF is het vervangen door chemisch versterkte resist.