공정 재료(가스와 케미칼)

ArF 노광용 포토마스크의 기판에 쓰이는 재료는 무엇입니까?

  1. A합성 석영 유리
  2. B소다석회 유리
  3. C알루미늄
정답과 해설 보기

정답: A. 합성 석영 유리

ArF 노광(193 nm)에서는 짧은 파장의 빛을 잘 투과시키고 열팽창이 작은 합성 석영 유리를 마스크 기판으로 사용하며, 그 위에 크롬 차광막이나 위상 시프트막으로 패턴을 만듭니다. 소다석회 유리는 심자외선을 흡수하고 열팽창도 커서 쓸 수 없습니다. EUV에서는 빛을 투과하는 재료가 없으므로 반사형 마스크가 되며, 열팽창이 거의 0에 가까운 저열팽창 유리 위에 다층막을 만듭니다.

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