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Croissance épitaxiale

Quel type de réacteur domine pour la croissance épitaxiale du silicium sur plaquettes de 300 mm ?

  1. ALe réacteur monoplaquette, traitant les plaquettes une par une
  2. BLe procédé par immersion dans un liquide
  3. CLe four de diffusion par lots traitant plusieurs centaines de plaquettes à la fois
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Réponse : A. Le réacteur monoplaquette, traitant les plaquettes une par une

Pour l'épitaxie sur plaquettes de 300 mm, le réacteur monoplaquette domine : chaque plaquette est chauffée rapidement par des lampes halogènes à travers une fenêtre en quartz, et l'écoulement gazeux et la température sont contrôlés avec précision. La rotation de la plaquette améliore l'uniformité et limite la dispersion d'épaisseur et de résistivité à environ ±1 à 2 %. Les conditions se règlent facilement et le chauffage et le refroidissement rapides réduisent le budget thermique. Les principaux fabricants sont notamment Applied Materials (États-Unis) et ASM.

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