Lithografie

Wie heißt die Behandlung, bei der nach dem Aufschleudern des Resists der am Waferrand aufgewölbte Resist mit Lösungsmittel entfernt wird?

  1. AAshing
  2. BEdge Bead Removal
  3. CPost-Exposure-Bake
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Antwort: B. Edge Bead Removal

Beim Spin-Coating wölbt sich der Resist am Waferrand durch die Oberflächenspannung dick auf (Edge Bead). Bleibt er stehen, kann er sich beim Transport ablösen und zu Partikeln werden, den Chuck der Anlage oder den Tisch der Belichtungsanlage verschmutzen und den Fokus am Rand stören; daher wird er entfernt, indem in den äußersten Millimetern Lösungsmittel aufgebracht wird (EBR). Zusätzlich erfolgt eine Rückseitenspülung, die auf die Rückseite gelaufenen Resist abwäscht.

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