良率與品質管理

作為考量缺陷在晶圓上偏聚、集中發生(群聚,clustering)的良率模型,所使用的是下列何者?

  1. A負二項分配模型
  2. B歐姆定律
  3. C丹納德縮放定律
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正確答案:A. 負二項分配模型

帕松模型假設缺陷隨機且均勻地分布,但實際的缺陷有局部聚集的傾向。負二項分配模型包含表示群聚程度的參數α,以Y=(1+DA/α)^(−α)表示。當DA=1時,帕松模型約為37%,α=1時則為50%,缺陷越聚集,留下的無缺陷晶片就越多。α越大,就越趨近帕松模型。

  • A. 正確。這是考量群聚的良率模型。
  • B. 歐姆定律是電壓、電流與電阻的關係。
  • C. 丹納德縮放定律是微縮化的指導方針。
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