欠陥がウエハ上で偏って集まって発生する(クラスタリングする)ことを考慮した歩留まりモデルとして使われるものはどれか。

正解：A. 負の二項分布モデル

ポアソンモデルは欠陥がランダムに一様に分布すると仮定しますが、実際の欠陥は局所的に集まる傾向があります。負の二項分布モデルは、クラスタリングの度合いを表すパラメータαを含み、Y = (1 + DA/α)^(−α) の形で表されます。αが大きいほどポアソンモデルに近づきます。

• A. 正しい。クラスタリングを考慮した歩留まりモデルです。
• B. オームの法則は電圧・電流・抵抗の関係です。
• C. デナードのスケーリング則は微細化の指針です。