關於半導體製造中雜質的「擴散」，下列說明何者正確？

正確答案：C. 雜質原子藉由熱，從濃度高處向濃度低處擴散開來的現象

擴散是原子因熱運動，使雜質從濃度高的區域向濃度低的區域擴散開來的現象，溫度越高進行越快。矽中的雜質是藉由與空缺（原子脫離後留下的洞）或間隙矽交換位置而移動。過去曾利用這種現象從表面導入雜質，但現在多半是在離子佈植導入後的熱處理中發生擴散，如何抑制它已成為課題。

• A. 以電場加速打入的是離子佈植。
• B. 沖洗掉的是清洗，不是擴散。
• C. 正確。這是藉由熱從高濃度向低濃度擴散的現象。