산화와 확산
반도체 제조에서 말하는 불순물의 '확산'에 대한 설명으로 올바른 것은?
- A불순물을 전계로 한 방향으로 가속하여 주입하는 방법
- B불순물을 액체에 녹여 씻어 내는 것
- C불순물 원자가 농도가 높은 곳에서 낮은 곳으로 열에 의해 퍼져 나가는 현상
정답과 해설 보기
정답: C. 불순물 원자가 농도가 높은 곳에서 낮은 곳으로 열에 의해 퍼져 나가는 현상
확산은 원자의 열운동에 의해 농도가 높은 영역에서 낮은 영역으로 불순물이 퍼져 나가는 현상으로, 고온일수록 빠르게 진행됩니다. 실리콘 내의 불순물은 공공(원자가 빠진 구멍)이나 격자간 실리콘과 자리를 바꾸면서 이동합니다. 예전에는 이 현상을 이용해 표면에서 불순물을 도입했지만, 현재는 대부분 이온 주입으로 도입한 뒤의 열처리에서 확산이 일어나며, 이를 어떻게 억제하느냐가 과제가 되고 있습니다.
- A. 전계로 가속하여 주입하는 것은 이온 주입입니다.
- B. 씻어 내는 것은 세정이며 확산이 아닙니다.
- C. 올바릅니다. 열에 의해 고농도에서 저농도로 퍼지는 현상입니다.