在離子佈植中，主要決定雜質被打入深度（射程）的參數是下列何者？

正確答案：A. 加速能量

佈植的深度主要由離子的加速能量決定，能量越高，打入越深。作為參考，將硼以10 keV佈植到矽中約為30～40 nm，100 keV則約為0.3 µm。相同能量下，越輕的離子打入越深，因此離子的種類也會影響深度。劑量是單位面積的離子數，決定濃度，可與深度各自獨立設定，這正是離子佈植的優勢。