이온 주입

이온 주입에서 불순물이 주입되는 깊이(비정, range)를 주로 결정하는 파라미터는 무엇인가?

  1. A가속 에너지
  2. B도즈량
  3. C주입 후 세정 시간
정답과 해설 보기

정답: A. 가속 에너지

주입 깊이는 주로 이온의 가속 에너지로 결정되며, 에너지가 높을수록 깊이 들어갑니다. 대략 실리콘에 붕소를 10 keV로 주입하면 약 30~40 nm, 100 keV에서는 약 0.3 µm입니다. 같은 에너지라면 가벼운 이온일수록 깊이 들어가므로 이온의 종류도 깊이에 영향을 줍니다. 도즈량은 단위 면적당 이온 수로 농도를 결정하며, 깊이와 독립적으로 설정할 수 있다는 점이 이온 주입의 강점입니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

이온 주입의 다른 문제

  1. 이온 주입 후 어닐링(열처리)을 하는 주된 목적으로 올바른 것은 무엇인가?
  2. 이온 주입에서 채널링(이온이 결정의 틈새를 지나 너무 깊이 들어가는 현상)을 억제하는 방법으로 일반적인 것은 무엇인가?
  3. 이온 주입의 도즈량을 나타내는 단위로 올바른 것은 무엇인가?
  4. 미세 트랜지스터의 소스·드레인에 얕은 접합을 만들기 위한 방법으로 올바른 것은 무엇인가?
  5. 이온 주입 후 불순물의 깊이 방향 분포를 근사적으로 나타내는 분포와, 그 피크 깊이를 나타내는 양의 조합으로 올바른 것은 무엇인가?

이 분야의 비교